Elemento filtrante fotorresistente
El elemento filtrante de fotorresistencia de Pullner utiliza una membrana de nailon 6,6 hidrófilo natural con soporte y tapas finales de polietileno de alta densidad, diseñada para filtrar la fotorresistencia y el revelador en la fabricación de semiconductores y productos electrónicos. Su baja presión diferencial, rápida puesta en marcha y mínima generación de burbujas reducen los residuos fotoquímicos y mejoran el rendimiento del proceso.
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